超純水與半導(dǎo)體可持續(xù)發(fā)展關(guān)系密切

半導(dǎo)體是用水大戶，半導(dǎo)體廠商通過(guò)與供應(yīng)商合作匹配新技術(shù)來(lái)驅(qū)動(dòng)水資源利用率提升，有助于提高用水效益，降低用水成本，提升半導(dǎo)體廠發(fā)展的可持續(xù)性。正因如此，近年來(lái)，越來(lái)越多半導(dǎo)體企業(yè)加大了在能源效率和可持續(xù)發(fā)展方面的投入。

半導(dǎo)體工廠可持續(xù)衡量指標(biāo)原則包括7個(gè)一級(jí)指標(biāo)，其中之一就是水資源利用率。這和長(zhǎng)期以來(lái)半導(dǎo)體耗水量多且水資源利用率相對(duì)不高有很大關(guān)系。

半導(dǎo)體的制造過(guò)程需要運(yùn)用大量的超純水來(lái)維持元件的潔凈度，以確保產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。同時(shí)，隨著器件結(jié)構(gòu)日益微小化，晶圓清洗技術(shù)的要求越來(lái)越高，相應(yīng)的用水量也會(huì)大幅增加。以一個(gè)產(chǎn)能為4萬(wàn)片每月的200mm晶圓廠為例，每天大約需要8000-10000噸水，其中70%用于生成超純水。而到了16nm、7nm工藝后，同樣產(chǎn)能為4萬(wàn)片的12英寸晶圓廠，每天的用水量將增加到大約20000噸?？紤]到晶圓廠通常的產(chǎn)能是每月數(shù)萬(wàn)片甚至數(shù)十萬(wàn)片，其耗水量可謂相當(dāng)驚人。

我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)近年來(lái)的發(fā)展速度舉世矚目，但和美日等國(guó)家相比，水資源利用效率相對(duì)較低。比如，與美國(guó)相比，中國(guó)用水量是美國(guó)的三倍，水資源利用率亟待提升。而通過(guò)采用超純水工藝及可循環(huán)回收方案，可以幫助企業(yè)提高水循環(huán)利用率，實(shí)現(xiàn)節(jié)水節(jié)能，提升節(jié)流效益，并減少對(duì)水資源的過(guò)度依賴，從而實(shí)現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展目標(biāo)。

超純工藝助力半導(dǎo)體節(jié)能降本增效

作為具有代表性的超純水生產(chǎn)工藝技術(shù)廠家，萊特萊德積極尋求水處理的技術(shù)突破，致力于為半導(dǎo)體制造等行業(yè)客戶提供超純水與循環(huán)再生解決方案及裝備。

萊特萊德超純水設(shè)備可根據(jù)客戶對(duì)水質(zhì)的具體要求，采用反滲透、EDI、拋光混床等超純水生產(chǎn)工藝的不同組合，生產(chǎn)出既經(jīng)濟(jì)實(shí)用，又能滿足客戶要求的超純水。擁有多項(xiàng)超純水專用膜核心技術(shù)，針對(duì)高精密機(jī)械、硅片、科研儀器等產(chǎn)品清洗用水制備，為用戶提供優(yōu)質(zhì)的超純水！